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Les législateurs américains présidant les principales commissions de la Chambre des représentants ont exhorté mardi les départements d'État et du Commerce à restreindre l'accès de la Chine aux équipements avancés de fabrication de puces, avertissant que les lacunes des contrôles à l'exportation menaçaient la sécurité nationale.
Dans une lettre bipartisane, le président de la commission spéciale de la Chambre des représentants sur la Chine, John Moolenaar, et le président de la commission des affaires étrangères de la Chambre des représentants, Brian Mast, ont appelé à des restrictions à l'échelle nationale sur les outils de fabrication de puces, arguant que la Chine a accéléré les importations d'équipements fabriqués à l'étranger et essentiels à la production de puces de pointe.
"Nous demandons instamment à l'administration de faire pression sur les alliés pour qu'ils mettent en œuvre des contrôles à l'échelle nationale sur les équipements et les sous-composants clés de fabrication de semi-conducteurs, c'est-à-dire tous les équipements et sous-composants que la Chine ne peut pas produire elle-même", indique la lettre adressée au secrétaire d'État américain Marco Rubio et au secrétaire au Commerce Howard Lutnick.
Parmi les signataires figurent également Gregory Meeks, membre de la Chambre des représentants chargé des affaires étrangères, et plusieurs membres de la sous-commission pour l'Asie centrale et méridionale, qui ont demandé que des restrictions soient imposées à l'entretien des équipements existants qui fonctionnent déjà dans les usines chinoises de fabrication de puces, arguant du fait que cet entretien est essentiel pour que ces outils restent fonctionnels.
Les législateurs ont également demandé à l'administration du président américain Donald Trump de présenter, dans le courant du mois prochain, sa stratégie visant à obtenir la coopération des alliés sur des contrôles étendus à l'échelle nationale ciblant les équipements et les composants essentiels à la fabrication de semi-conducteurs.
L'avertissement du Congrès sur les lacunes des contrôles américains à l'exportation intervient alors que la Chine semble faire des percées que Washington cherche depuis longtemps à bloquer. Pékin doit encore relever des défis techniques majeurs, notamment pour reproduire les systèmes optiques de précision produits par les fournisseurs occidentaux.
En décembre, Reuters a appris que des scientifiques chinois avaient construit, dans un laboratoire hautement sécurisé de Shenzhen, un prototype de machine modelé sur les outils de lithographie à ultraviolet extrême (EUV) d'ASML - l'équipement pionnier nécessaire à la production des puces les plus avancées qui alimentent l'intelligence artificielle, les smartphones et le matériel militaire occidental.
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